Les valves papillon à disque à triple excentration et à siège métallique des séries L1 et L2 de Neles Neldisc sont spécialement conçus pour répondre aux exigences des industries chimiques, pétrochimiques, de raffinage et de la pâte à papier dans les grands DN.
Les vannes à disque triple excentrique à siège métallique des séries Neles™ Neldisc™ wafer type L1 et à oeillets type L2 sont spécialement conçues pour répondre aux exigences des industries chimiques, pétrochimiques, de raffinage et de pâte à papier dans les grandes DN. Avec des caractéristiques de pourcentage égal et une étanchéité supérieure, les vannes à disque triple excentrique Neldisc™ fonctionnent à la fois dans les applications de contrôle et de fermeture étanche.
La conception Neldisc™ à disque triple excentrique à siège métallique, offre une durée de vie opérationnelle prolongée dans les applications à fermeture étanche, à cycle élevé, à haute température et abrasives. Grâce à la géométrie unique du disque triple excentrique Neldisc™, le contact entre le disque et le siège est induit mécaniquement et ne dépend pas de l’assistance de la pression différentielle.
L’option unique de traitement du disque S-disc élargit les possibilités d’application au-delà de celles des vannes papillon typiques.
Design
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L1 – Wafer type
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L2 – Lug type
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Gamme de tailles |
DN 700 – 1200 / 28″ – 48″
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Classes de pression |
ASME 150 – 300, DIN PN 25, 40
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Plage de température |
-200 °C … +600 °C / -330 °F … +1110 °F
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